金融界2024年9月4日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，浙江奥首资料科技有限公司请求一项名为“一种硅晶片糙面减薄蚀刻液及其制备办法与使用“，公开号CN0.7，请求日期为2024年5月。

　　专利摘要显现，本发明触及一种硅晶片糙面减薄蚀刻液及其制备办法与使用，所述的硅晶片糙面减薄蚀刻液依照分量份核算，包含如下组分：硝酸15‑20份；纤维素类增稠剂1‑5份；酸性磷酸氟1‑5份；四氟硼酸盐1‑3份；超纯水20‑30份。本发明中纤维素类增稠剂使系统全体的粘稠度添加，有利于粗蚀刻；一起气泡成长并留在硅外表上，蚀刻液很难进一步触摸硅，使得衬底上蚀刻速率散布不均匀，硅的外表变粗糙。酸性磷酸氟的参加能添加蚀刻液的潮湿功能、稳泡功能以及替代氢氟酸的多重作用。本发明选用纤维素类增稠剂、酸性磷酸氟和四氟硼酸盐的组合，可以明显提高蚀刻速率，改进蚀刻后硅外表粗糙度，避免了较高蚀刻速率下硅晶片外表的镜面化。